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合肥芯硕半导体有限公司与合肥芯碁微电子装备有限公司侵害发明专利权纠纷一审民事判决书

基本信息

案号(2018)皖01民初625号
案件名称合肥芯硕半导体有限公司与合肥芯碁微电子装备有限公司侵害发明专利权纠纷一审民事判决书
法院安徽省合肥市中级人民法院
属地已隐藏
案件类型民事案件
审理程序民事一审

日期信息

裁判日期2018-10-23
发布日期已隐藏

当事人

当事人合肥芯硕半导体有限公司;合肥芯碁微电子装备有限公司

案由

案由侵害发明专利权纠纷

全文

安徽省合肥市中级人民法院民 事 判 决 书(2018)皖01民初625号原告:合肥芯硕半导体有限公司,住所地安徽省合肥市经济技术开发区锦绣大道北、习友路东。

法定代表人:朱光伟,该公司董事长兼总经理。

委托诉讼代理人:张琦、杨毅,上海九州丰泽律师事务所律师。

被告:合肥芯碁微电子装备有限公司,住所地安徽省合肥市高新区创新大道2800号创新产业园二期F3楼11层。

法定代表人:程卓,该公司董事长。

委托诉讼代理人:陶冉、吴虎,北京中银(合肥)律师事务所律师。

原告合肥芯硕半导体有限公司(简称芯硕公司)与被告合肥芯碁微电子装备有限公司侵害发明专利权纠纷一案,本院2018年5月9日立案后,依法适用普通程序,于2018年7月24日公开开庭进行了审理。

原告的法定代表人朱光伟及委托诉讼代理人张琦、杨毅,被告的委托诉讼代理人陶冉、吴虎到庭参加了诉讼。

本案现已审理终结。

原告诉请判决被告:1、停止对原告专利权的侵害;

2、赔偿原告经济损失人民币12221192元;

3、承担诉讼费用。

诉称事实与理由:原告2006年4月26日设立,经营范围为生产和销售集成电路设备及软硬件相关产品,是专业研究开发、和生产半导体光刻和检测设备、专用激光直接成像设备的高科技企业,拥有综合式直写光刻方法等11项方法发明专利,为生产直写光刻设备、激光成像设备所不可或缺。

被告2015年6月30日设立,其未经原告许可,实施原告上述专利制造激光直接成像LDI设备、直写光刻设备等,并将利用原告专利方法获得的产品销售、许诺销售给相关客户,从中获利。

根据专利法的规定,被告应当证明其销售及许诺销售的设备使用的是与原告涉案专利方法所不同的制造方法。

被告于2017年4月12日获得第一项非方法发明专利,5月24日获得第一项方法发明专利。

而在2016年5月13日,被告在未取得任何发明专利授权的情况下已开始设备的生产、销售和许诺销售。

2017年5月5日,被告在仅获得一项非方法发明专利授权的情况下,已开始在公司网站销售及许诺销售整套直写光刻设备、激光成像设备。

由此,原告推定,被告销售及许诺销售该等设备完全利用了原告的专利方法。

被告多位技术骨干均曾在原告处就职(被告的大股东、法定代表人、董事长程卓任职原告董事长,被告的股东、总工、董事方林任职原告技术副总,被告的股东、副总工何少锋任职原告总工),后共同筹建被告公司。

筹建过程中多次怂恿原告的技术人员离职加入被告,盗取大量原告的技术秘密和商业秘密。

上述人员在筹建被告公司时,曾将原告前述11项专利直接列入被告商业计划书中,明示被告使用的是原告的专利方法。

在其《关于芯碁微装重大问题的请示汇报》中,被告表示“虽然我们团队掌握了芯硕的技术,我们也对外声称我们可以绕开芯硕的专利保护,但是实际上芯碁微装是无法摆脱芯硕的痕迹的”。

对上述内容原告已作证据保全,其真实性已在(2017)皖01民初189号案获得人民法院认可。

被告侵权行为致原告巨大经济损失,原告现诉至法院,请求判决如所请。

被告答辩称,本案不适用举证责任倒置,举证责任在原告。

原告的陈述逻辑存在重大瑕疵,先设定前提即原告的方法发明专利是生产直写光刻设备、激光成像设备所不可或缺,该前提不成立。

事实在原告公司成立前,国内外已有多家公司生产此类设备。

原告经营不善,致公司土地、厂房被拍卖,长期处于瘫痪状态并拖欠员工工资,所有员工被迫离开。

原告保全的证据与本案无关,不能达到其证明目的;

人民法院仅认可公证书的真实性,未认可公证内容的真实性。

被告无任何侵权行为,原告诉请应予驳回。

经审理查明:2006年4月26日,原告公司成立,经营范围为生产和销售集成电路设备及软硬件相关产品。

原告先后取得多项专利,本案中以11项涉案发明专利主张权利,请求保护各专利权的权利要求1。

该11项发明专利相关信息分别如下:专利1、专利号ZL20071002××××.5,名称“综合式直写光刻方法”,专利申请日2007年5月23日,授权公告日2009年11月18日;

权利要求1的内容为:综合式直写光刻方法,其特征在于包括下述操作步骤:(1)、首先,在置于精密移动平台上的光敏感元件上生成具有与期望图形相关的特征的目标曝光图形。

(2)、分步直写光刻从二分之一的放大倍率的低放大倍率的投影镜头开始,对目标曝光图形进行空间定位和对焦,确定目标曝光图形中第一个曝光图形,并进行曝光;

再以高放大倍率的投影镜头,对目标曝光图形进行空间定位和对焦,确定目标曝光图形中第二个曝光图形,以确保第二个曝光图形与第一个曝光图形进行衔接,再进行曝光;

再以更高放大倍率的投影镜头,对目标曝光图形进行空间定位和对焦,确定目标曝光图形中第三个曝光图形,以确保第三个曝光图形与第二个曝光图形进行衔接,再进行曝光;

继续上述操作,直到除目标曝光图形轮廓外,其他空间均予已曝光;

(3)、继续扫描光刻对目标曝光图形的轮廓进行连续式扫描曝光,形成光滑边缘的图形轮廓之间无缝隙的连接;

对目标曝光图形的精细结构进行连续式扫描曝光,形成光滑连接的精细结构图形。

专利1说明书中的技术领域、背景技术部分中记载:本发明涉及光刻技术领域,具体的说,涉及在如下衬底上印刷构图,如晶片、印刷电路板、掩膜板、平板显示器、生物晶片、微机械电子晶片、光学玻璃平板。

……光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。

这样的衬底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的基片。

专利2、专利号ZL20111009××××.5,名称“一种应用于直写式光刻机的灰阶曝光的方法”,专利申请日2011年4月13日,授权公告日2012年8月29日,权利要求1的内容为:1、一种应用于直写式光刻机的灰阶曝光的方法,利用FPGA实现,其特征在于:包括以下步骤:(1)首先将FPGA中用于存储灰阶图形数据的存储器划分为N个相同大小的区域,N表示是灰阶图形灰阶的阶数;

(2)利用FPGA分别提取用来表示灰阶图形数据的二进制码的每一位,并依次形成与灰阶图形像素点分布一致的N张单色图形数据,然后将N张单色图形数据分别存储到存储器各个区域中;

(3)当待曝光器件与图形发生器所反射的激光光束相对位置移动了一个曝光像素点时,更新一次图形发生器的图形显示,同时,FPGA分别从存储器的每个区域读取行的曝光数据形成一张与图形发生器像素分一致的像素数据,并控制图像发生器显示。

专利3、专利号ZL20111009××××.2,名称“一种在FPGA中实现梯形图填充的方法”,专利申请日2011年4月13日,授权公告日2013年2月6日,权利要求1的内容为:1、一种在FPGA中实现梯形图填充的方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)首先在FPGA中利用BRESENHAM算法画梯行的四个边;

(2)其次在步骤(1)画边的同时,将画边生成的像素点的行列坐标按规则存储到寄存器组A1,A2,其中存储到寄存器祖A1,A2的规则是指:将画边生成的像素点行列坐标以行坐标为索引值并将列坐标存储到寄存器组A1,A2,并且只存储同一行坐标上的最小列坐标和最大列坐标,分别存储到寄存器组A1和A2,如果某行只有一个像素点也即只有一个列,则最小列坐标和最大列座标均是这个列;

(3)最后根据步骤(2)得到的寄存器组A1,A2的内容按行填充梯形,建立一个与帧大小相等的存储器区域B用于存放填充出的图形数据,填充过程为:从最小行坐标开始逐行进行填充,根据寄存器组A1,A2二存储的列编号按行以每次N列的数据填充寄存器B,每行的填充规则是:N个像素点同时进行填充,如果落在该行最小列坐标和最大列坐标范围内则填充1,否则填充0;

所表述的N是8、16、32、64、128中的一个数字;

选用FPGA进行梯形图的填充,使上述的按行填充与画边长是同时进行,即画一个梯形的边长时,同时进行着上一个梯形的按行填充,且整个梯形填充的过程也是并行的。

专利4、专利号ZL20111013××××.9,名称“一种直写式光刻机的对准系统及对位标记精度提取方法”,专利申请日2011年5月20日,授权公告日2013年3月13日,权利要求1的内容为:1、一种直写式光刻机的对准系统,其特征在于:包括有曝光模块、成像模块、运动控制模块、对准模块;

所述运动控制模块包括可四维移动的精密移动平台,所述精密移动平台上设置有晶圆,所述晶圆上制作有对位标记以及套刻检测用图形,所述曝光模块包括空间光调制器,所述空间光调制器向所述晶圆上投射套刻图形,套刻检测用图形和晶圆上投射套刻图形之间是大框套小框的方式,所述成像模块包括CCD相机,所述CCD相机采集晶圆上的对位标记的图像,以及晶圆上套刻用检测图形的图像、空间光调制器投射至晶圆上的套刻图形的图像,所述对准模块包括图像处理单元,所述图像处理单元接收CCD相机的图像数据并对CCD相机的图像数据进行处理。

专利5、专利号ZL20111014××××.3,名称“一种扫描式无掩膜光刻机的数据处理方法”,专利申请日2011年5月31日,授权公告日2014年12月10日,权利要求1的内容为:1一种扫描式无掩膜光刻机的数据处理方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)使用客户端和服务器端共同进行数据处理:客户端负责输入片图文件,对版图文件进行解析、提取,将提取的矢量信息通过网络发送到服务器端;

服务器端负责图形图像处理工作,包括栅格化、拼接、格式化转换;

客户端和服务器端通过网络进行数据通信和操作上的同步;

(2)在服务器端,对于要处理的版图,以扫描过程中的一个条带为单位设置缓冲区,将每次处理得到的空间光调制器可接收的数据先缓存起来,等到一个条带的数据全部缓存完毕,一次性发送到空间光调制器的内存中去,平台扫描运动时空间光调制器只需从已经处理好的数据中取数据即可,使光刻设备的平台开始一个条带的匀速扫描运动,最终将扫描数据曝光到光敏感的介质上;

所述服务器端使用存储区池和处理流水线进行版图数据处理,即:在处理之前首先分配若干个存储区,组成存储区池和处理流水线,每个存储区足够处理一个图形区域使用,每个存储区都有“空闲”和“使用中”两个状态,当有一个图形区域需要处理时从空闲的存储区中取出一个供使用,放到处理流水线上进行处理,同时将其状态设置为“使用中”,在处理流水线上处理完成再将该存储区的状态设置为“空闲”,以便提供给其他的图形区域处理使用;

对于版图中包含有大阵列的情况,先对版图中的阵列进行预处理,并在服务器端保存陈列处理结果,实际扫描曝光提取数据时,只记录要提取区域和版图阵列的交叠区的大小和位置,最后从服务器端事先保存的阵列处理结果中将交叠区的数据取出来合并即可;

所述的大阵列是指于版图中单位面积的矢量数据密集,每平方微米达到上百个点的版图。

专利6、专利号ZL20111014××××.1,名称“一种制版光刻设备静态稳定性测量方法”,专利申请日2011年5月31日,授权公告日2013年3月13日,权利要求1的内容为:1、一种制版光刻设备静态稳定性测量方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)在移动平台上的掩模板上制作特定的定位标记,并通过真空吸附技术将掩模板吸附在移动平台上;

(2)将物镜置于掩模板上方且物镜镜头竖直向下对准掩模板,调整移动平台,将掩模板上的定位标记移动至物镜视场内,采用CCD相机通过物镜采集移动平台上掩模板图像;

(3)CCD相机采集掩模板上定位标记的图像,利用图像处理技术得到掩模板上定位标记中心与物镜视场中心的偏移量,通过移动平台带动掩模板上的定位标记中心移动相应的偏移量至物镜视场中心,并记录此时移动平台在CCD相机中的坐标;

(4)保持移动平台静止不动,每间隔时间间隔t采用CCD相机采集一次掩模板上定位标记的图像,并通过图像处理技术得到每个时间间隔t内定位标记中心相对于物镜视场中心的偏移量,经过n次时间间隔t的重复采集,得到各个时间间隔内定位标记中心相对于物镜视场中心的偏移量;

(5)所述步骤(4)采集的n次时间间隔t内的定位标记中心相对于物镜视场中心的偏移量,即为光刻设备静态漂移量。

专利7、专利号ZL20111043××××.5,名称“一种基于CUDA的梯形填充方法”,专利申请日2011年12月21日,授权公告日2014年6月25日,权利要求1的内容为:1、一种基于CUDA的梯形填充方法,涉及光刻技术,其特征在于包括以下步骤:①在Host端准备需要填充的位图图形,设置位深、颜色表,分配并初始化内存单元;

②在Host端准备好需要的梯形顶点数据,并保存在梯形点集里;

③把当前处理任务分配给一个Grid,根据位图图形的数量确定Block数量,根据梯形的数量确定Thread数量;

④通过CUDA提供接口函数,在Device端的GlobalMemory分别分配位图图形和梯形顶点数据所需的空间;

⑤将Host端的数据拷贝到Device端的内存中;

⑥启动CUDA多线程并行填充梯形;

⑦待处理完之后,将Device端填充之后的数据,拷贝到Host端,即完成填充;

步骤③中也可把任务分配给多个Grid处理。

专利8、专利号ZL20121012××××.9,名称“同步信号触发扫描方式延迟时间测量方法”,专利申请日2012年4月24日,授权公告日2014年6月25日,权利要求1的内容为:1、一种同步信号触发扫描方式延迟时间测量方法,包括有投影曝光模块、主控模块,投影曝光模块包括有曝光光源、空间光调制器,曝光光源与空间光调制器之间设有光学集光系统,空间光调制器下方设置有倾斜的分束器,分束器下方设置有基底,分束器与基底之间还设有透镜,分束器的分光面的前方光路上设有反射镜,反射镜的反射光的前方光路上设有CCD摄像机,所述的基底置于精密移动平台上;

所述的主控模块包括有计算机系统、控制器,计算机系统分别通过一个控制器与空间光调制器、曝光光源、带动精密移动平台运动的电机控制连接,计算机系统还通过人工智能模块与CCD摄像机连接;

曝光光源发射的光信号经光学集光系统集光后由空间光调制器接收,空间光调制器发射调制光,调制光经过分束器及透镜投影至安装在精密移动平台上的基底表面以进行成像,精密移动平台输出位置同步信号至空间光调制器,分束器将基底表面的图像信号经反射镜传送至CCD摄像机,其特征在于:测量方法包括以下步骤:①精密移动平台沿着y轴正方向以速度v1运动并输出位置同步信号至空间光调制器时,空间光调制器接受信号后翻转图形,在基底上曝光图形大框;

②精密移动平台沿着y轴正方向以速度v2运动并输出位置同步信号至空间光调制器时,空间光调制器接受信息后翻转图形,在基底上曝光图形小框;

③根据曝光图形的结果,使用高倍率显微镜测量y方向小框和大框的外边差,并记录分别为y1和y2,大框和小框的外边差为大框的上端与小框的上端的垂直距离y2和大框的下端与小框的下端的垂直距离y1;

④位置同步信号触发的延迟时间是指从平台发出同步触发信号到空间光调制器接受到该同步信号的时间,该时间是固定的,所以延时t=中心偏差/速度差,中心偏差=(y2-y1)/2,速度差=v1-v2;

所以延时t=(y2-y1)/[2×(v1-v2)];

⑤进而,在曝光的起始点根据测得的延时t得到补偿延迟误差值为v×t,v是精密移动平台沿着y轴正方向匀速运动的速度,进而,根据得到的补偿延迟误差值对曝光起始点坐标进行补偿,理论计算的曝光起始坐标是(x,y),补偿后的曝光坐标值是(x,y-v×t)。

专利9、专利号ZL20121018××××.4,名称“直写式光刻系统中图像数据串的压缩方法”,专利申请日2012年6月8日,授权公告日2014年8月7日,权利要求1的内容为:1、一种直写式光刻系统中图像数据串的压缩方法,其特征在于,压缩后的数据以字节为单位,以不同的表述位组合成不同数据结构,结构中位数据从高到低依次为指示位、图像点数据,或者为指示位、表示位、计数值,或者为指示位、表示位、说明数据;

具体步骤如下:(1)读取一行数据,并压入保存行起始说明(十六进制数)05H(10),检查此行是图像首行,是则压入保存(十六进制数)05H(8),缓存本行并取本行转步骤(4),否则继续下一步骤;

(2)与缓存行进行相关比较,即与缓存行对应异或,检查0的数量以判断相关系数;

(3)如果相关系数为1,即与缓存完全相同,则压入保存(十六进制数)11H(10),转步骤(1);

如果相关系数不为1且相关系数大于等于0.5,则压入保存(十六进制数)06H(9),缓行本行,取异或后的行继续;

否则,则压入保存(十六进制数)05H(8),缓存本行,取本行继续;

(4)取7个像素的点阵;

(5)点阵数据等于0000000或1111111时,转步骤7;

否则压入数高位是1、低7位是点阵数据组合的字节,计数值cnt清零;

(6)本行结束判断,是则转步骤(9);

否则再取7个像素的点阵,与上次的点阵数据相同,则计数值cnt加1,重复步骤(6)至不相同或计数值cnt等于31,则压入数高3位是011(6)、低5位是计数值cnt数据的组合后的字节,转步骤5重复;

(7)计数值cnt置7;

(8)本行结束判断,是则转步骤9;

否则继续读取点阵数据并检查是否等于0或1,是则cnt计数值加1,重复步骤(8)至不等于0或1或计数cnt等于31,则压入数高3位是001(4)或010(5)、低5是计数cnt数据的组合后的字节,转步骤4重复;

(9)本行结束,压入行结束说明(十六进制数)0CH(11);

(10)判断图像是否全部压缩扫描完,是则结束,否则转步骤1重复进行。

专利10、专利号ZL20121018××××.5,名称“直写式光刻系统中的图像灰度数据的压缩方法”,专利申请日2012年6月8日,授权公告日2014年7月30日,权利要求1的内容为:1、一种在直写式光刻系统中的图像灰度数据的压缩方法,其特征在于,以图像行格式压缩,每次检查1×N灰度图数据,以计算机识别的长度bit位数为单位,每个单位数由标示数和计数值构成,标示数用以说明压缩的全白或者全黑或者相同灰度数据,计数值用以说明相同灰度数据的计数,其它灰度数据则不进行压缩:具体包括以下步骤:假设N=4;

计算机识别的长度bit位数=16bit;

(1)读取一行灰度图数据,建立压缩缓冲区;

(2)压缩入行起始标志HEX数为0xA5A5,再压入0xFFFF;

(3)取出4×4位图数据,组成16bit的数,计数值cnt清零;

(4)全白检测,是计数cnt加1,重复取出4×4位图数据作全白检测,直至不是全白,则压缩入0xAA00与计数值cnt的和;

(5)全黑检测,是计数cnt加1,重复取出4×4位图数据作全黑检测,直至不是全黑,则压缩入0x5500与计数值cnt的和;

(6)把位图数据与上一个压缩入缓冲区的位图数据比较,不同则转下一个步骤;

相同则计数值cnt加1,重复取出4×4位图数据作相同检测,直至是不相同,则压缩入0x5A00与计数值的和;

(7)将此位图数据压缩入缓冲区;

(8)重复步骤(3)~(7),直4行数据检查完,用压入的数量量改写前项0xFFFF数据;

(9)4行数据压缩完毕,依次向下扫描检查压缩图像数据,重复步骤(1)~(8),直至全部图像数据压缩完。

专利11、专利号ZL20121018××××.2,名称“直写式光刻系统中倾斜扫描的图像数据压缩方法”,专利申请日2012年6月8日,授权公告日2014年10月15日,权利要求1的内容为:1、一种在直写式光刻系统中倾斜扫描的图像数据的压缩方法,其特征在于,同时进行N行位图数据进行压缩,压缩后N×N位图数据,以字为单位,压缩后数据依次为行起始标志、压缩后的数量、位图数据或位图压缩数据:假设N×N=4×4;

具体步骤如下:(1)读取4行位图数据,建立压缩缓冲区;

(2)压缩入行起始标准HEX数为0xE1E0;

(3)取出1×4灰度图数据,保存,计数cnt清零;

(4)全白检测,是计数cnt加1,重复取出1×4灰度图数据作全白检测,直至不是全白或者计数cnt大于15,则压缩入0xF1F0+cnt;

(5)全黑检测,是计数cnt加1,重复取出1×4灰度图数据作全黑检测,直至不是全黑或者计数cnt大于15,则压缩入0xF1E0+cnt;

(6)对灰度数据的高12bit依次进行检查,是0xF1F或者是0xF1E或者是0xE1F或者是0xE1E0,则设置标示数sing为0x0100,否则标示数sing为0x0000;

(7)把读取到的灰度数据与上一个保存的灰度数据比较,不同转下一个步骤;

相同则计数cnt加1,重复取出1×4灰度图形数据作相同检测,直到是不相同或者计数cnt大于15,则保存的数据先与标示数sing求异或后压入,再压缩入0xE1F0+cnt;

(8)压缩入保存的数据先与标示数sing求异或的数;

(9)重复步骤(3)~(8),直至一行灰度数据检查完;

(10)一行灰度数据压缩完毕,依次向下扫描压缩图像数据,重复步骤(1)~(9),直至全部图像数据压缩完。

2017年4月18日,芯硕公司以方林为被告,向本院提起侵害发明专利权诉讼。

芯硕公司在该案中提交(2017)津汉沽证字第280号公证书及附光盘、光盘所载电子邮件打印件作为证据7,主张该证据能证明方林伙同他人侵害芯硕公司利益。

2017年11月15日,本院作出(2017)皖01民初189号民事判决,对该份证据7,本院认证意见为:对其真实性予以认可,但达不到芯硕公司的证明目的。

被告认可程卓、方林、何少锋曾在原告处任职。

(2017)沪长证字第3016号公证书证实,2017年5月5日,被告在其网站(网址××/)宣传多款产品。

其中,MLL系列产品相关信息为:紧凑型无掩膜直写光刻设备;

应用于IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、触摸屏等加工;

高精密定位工作平台,可实现6英寸的基底尺寸(可扩展);

可实现0.6μm的亚微米线宽分辨率;

配备高精度套刻和背面对准功能(可选配)。

LDW-T系列产品信息:高精度专业级无掩膜直写光刻设备;

应用于大规模集成电路掩膜版制作、IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、触摸屏等加工;

高精度工作平台,可实现8英寸的基底尺寸(可扩展);

配备高精度套刻和背面对准功能;

高产能曝光。

LDW-X6系列产品信息:高精度专业级无掩膜直写光刻设备;

应用于大规模集成电路掩膜版制作、IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、触摸屏等加工;

高精度工作平台,可实现8英寸的基底尺寸(可扩展);

可实现0.5μm的亚微米线宽分辨率;

配备高精度套刻和背面对准功能;

高产能曝光。

(2017)津汉沽证字第280号公证书证实,2017年3月13日,天津市汉沽公证处指派公证人员,在天津市滨海新区汉沽新区汉沽法律援助中心办公室,对芯硕公司法定代表人朱光伟操作计算机及计算机显示器相关显示内容进行了公证。

以上事实,由原告提交的其营业执照、涉案发明专利证书及专利登记簿副本等专利文件、天津市汉沽公证处(2017)津汉沽证字第280号公证书、安徽省合肥市徽元公证处(2016)皖合元公证字第4600号公证书、上海市长宁公证处出具(2017)沪长证字第3016号公证书、本院(2017)皖01民初189号民事判决书、芯碁公司工商登记信息打印页等证据,以及原、被告在案陈述,予以证实。

本院认为:原告涉案11项专利为方法发明专利,原告主张,被告对其生产、销售、许诺销售的MLL系列、LDW-T系列、LDW-X6系列等产品,应当按照专利法第六十一条第一款的规定,提供上述产品制造方法不同于原告涉案专利方法的证明;

证明不能的,应认定被告侵害原告涉案专利权。

本院认为,原告该主张能够成立的前提之一是,被告的产品与原告涉案专利制造加工出来的产品,属于相同产品。

但该前提并不存在。

以原告专利1为例,其名称是“综合式直写光刻方法”,根据专利1说明书关于技术领域、背景技术部分的记载,专利1涉及在晶片、印刷电路板、掩膜板、生物晶片、微机械电子晶片等衬底上印刷构图,并进一步解释光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图,衬底可包括用于制造半导体器件、集成电路、液晶显示器、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等的基片。

由此可知,专利1作为一种产品制造加工方法,被用于制造加工半导体器件、集成电路等的基片。

根据被告网站的描述,被告产品属于无掩膜直写光刻设备,应用于IC芯片、MEMS、LED、生物芯片、触摸屏等加工,本身不能被视为和归类为IC芯片类产品,而是属于用于制造加工IC芯片的设备。

故被告产品中至多是可能使用了原告专利1限定的制造方法或类似方法,但其本身不属于使用原告专利1所限定方法制造加工出来的产品。

原告根据其专利1,要求在本案中适用举证责任倒置规则,缺乏法律上的依据。

另一方面,光刻设备作为芯片制造加工类设备,很难相信只要是光刻设备,就必然使用了原告专利1限定的方法;

因为依常识,仅在我国,使用了大量集成电路芯片的家用电脑等现代信息设备已在上世纪未普遍进入人们的日常生活,而原告专利1于2009年方才提出申请。

因此,本案对被告不适用举证责任倒置规则。

由于原告未提供被告的产品作为证据,以证明被告产品上使用了原告专利1限定的方法,应当承担举证不能的后果。

原告其他10项涉案专利也不是用于制造芯片加工设备的方法,而是芯片加工设备在工作过程中可能需要使用的方法。

被告产品同样也不属于使用该10项专利方法制造出来的产品,而是可能使用了该10项专利方法来加工芯片的芯片制造加工设备,故也不应对被告适用举证责任倒置规则。

对于被告产品中是否使用了该10项专利方法,原告仍应提供证据加以证明。

原告未提供被告的产品作为证据加以证明,应承担举证不能的后果。

关于天津市汉沽公证处(2017)津汉沽证字第280号公证书,本院(2017)皖01民初189号民事判决书仅认可了公证书的真实性,但认为达不成原告在该案中主张的证明目的。

结合公证书记载的内容,该认证意见应理解为,认可公证书本身真实、公证书所记载的公证过程曾经真实发生,但公证书所涉及的被公证的计算机来源以及该计算机中的邮件等内容的来源难以认定,不能达成芯硕公司在该案中的证明目的。

本案中,本院仍然认为,该公证书不能达成芯硕公司在本案中所主张的证明目的。

综上,原告的诉请不能成立,依法应予驳回。

根据《中华人民共和国民事诉讼法》第六十四条第一款、《最高人民法院关于适用〈中华人民共和国民事诉讼法〉的解释》第九十条的规定,判决如下:驳回原告合肥芯硕半导体有限公司的诉讼请求。

案件受理费95127元,由原告合肥芯硕半导体有限公司负担。

如不服本判决,可在判决书送达之日起十五日内,向本院递交上诉状,并按对方当事人的人数提出副本,上诉于安徽省高级人民法院。

(此页无正文)审判长 樊 坤审判员 张宏强审判员 汪 寒二〇一八年十月二十三日书记员 王 妍附相关法律条文:《中华人民共和国民事诉讼法》第六十四条第一款当事人对自己提出的主张,有责任提供证据。

《最高人民法院关于适用〈中华人民共和国民事诉讼法〉的解释》第九十条当事人对自己提出的诉讼请求所依据的事实或者反驳对方诉讼请求所依据的事实,应当提供证据加以证明,但法律另有规定的除外。

在作出判决前,当事人未能提供证据或者证据不足以证明其事实主张的,由负有举证证明责任的当事人承担不利的后果。

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